文章來源：科創局 發布時間：2026-01-21
69：12英寸高純（5N）鉭靶材
一、成果簡介
本產品由有研億金新材料有限公司開發，是130～5nm制程鋁襯墊層、銅互連阻擋層用核心材料，集成3項專利成果，適用于集成電路領域，采用微觀組織控制、高可靠性異種金屬擴散焊接、精密機加工三大技術，性能適配90～5nm制程集成電路、3D NAND Flash先進存儲及高端傳感器件，已應用于國內外多家頭部芯片企業。
二、主要指標
（一）高純鉭靶材純度≥5N5（99.9995wt%）；
（二）高純鉭靶材直徑≥Φ450mm；
（三）高純鉭靶材厚度≥8mm；
（四）高純鉭靶材焊合率≥99%；
（五）高純鉭靶材平均晶粒尺寸≤80μm；
（六）高純鉭靶材軋制面取向占比
1.板材軋制面取向{111}
2.板材軋制面取向{100}
3.板材軋制面取向{110}
三、聯系方式
高 巖，13552009975，gy@grikin.com
70：12英寸超高純（6N）銅錳靶材
一、成果簡介
本產品由有研億金新材料有限公司開發，集成8項專利成果，獲得國家級創新獎、行業協會科學技術獎等多項獎項。產品采用了大尺寸鑄錠熔煉、微觀組織控制、高可靠性焊接等技術，可應用于14～7nm芯片互連線薄膜先進制程，已批量供應國內頭部芯片企業。
二、主要指標
（一）靶材純度≥99.9999wt%；
（二）靶材直徑≥Φ440mm；
（三）平均晶粒尺寸≤50μm；
（四）焊合率≥99%；
（五）表面粗糙度≤0.8μm。
三、聯系方式
高 巖，13552009975，gy@grikin.com
71：紫外級（4N）氧化鉿光學鍍膜材料
一、成果簡介
本產品由有研資源環境技術研究院（北京）有限公司開發，集成4項專利成果，采用N235-H2SO4萃取體系和9級錯流工藝實現鉻鈷深度分離技術，具有蒸發穩定不易噴濺、成膜致密、膜層紫外透過率高、抗激光損傷閾值高等特點，可滿足高能激光器與大型光學裝置需求，已累計銷售10余噸。
二、主要指標
（一）Zr含量＜0.5wt%；
（二）純度≥99.99%；
（三）相對密度＞95%；
（四）閉合氣孔率＜3%。
三、聯系方式
桂 濤，17501101334，guitao@grinm.com
159：電子級超高純金屬大型電子束熔煉提純裝備
一、成果簡介
本產品由有研工程技術研究院有限公司開發，集成39項專利成果，可用于半導體靶材用超高純金屬原材料批量生產，所熔煉的超高純金屬銅、鉭、鈷、鎳純度分別達到99.9999%、99.9999%、99.999%和99.995%，超高純銅、鉭鑄錠直徑達到280mm、400mm。已應用于1600kW超高純金屬電子束熔煉爐項目。
二、主要指標
（一）最大功率：1600kW；
（二）電子槍功率：800kW；
（三）加速電壓：60kV；
（四）最大偏轉角：±45°；
（五）極限真空度：5×10-4Pa；
（六）升壓率：0.67Pa/h。
三、聯系方式
朱寶宏，13810118386，zhubh@grinm.com
【責任編輯：劉祉妤】