文章來源：中國有色礦業(yè)集團有限公司 發(fā)布時間：2021-05-19
84．鉭靶材
【所屬領(lǐng)域】關(guān)鍵材料
【中央企業(yè)名稱】中國有色礦業(yè)集團有限公司
【技術(shù)產(chǎn)品簡介】鉭靶材通常稱為裸靶，首先將其與銅背靶進行焊接，然后進行半導(dǎo)體或光學(xué)濺射，將鉭原子以氧化物形成淀積在基板材料上，實現(xiàn)濺射鍍膜；鉭靶材主要應(yīng)用于半導(dǎo)體鍍膜、光學(xué)鍍膜等行業(yè)。在半導(dǎo)體工業(yè)中，目前主要使用金屬鉭(Ta)通過物理氣相沉積法(PVD)鍍膜并形成阻擋層作為靶材。隨著科技的快速發(fā)展，半導(dǎo)體工業(yè)的發(fā)展是整個高科技產(chǎn)業(yè)的核心，是衡量一個國家科技水平和創(chuàng)新能力的制高點，因而受到多個國家的高度重視，同時也是技術(shù)封鎖的重中之重；目前半導(dǎo)體技術(shù)的前沿是極大規(guī)模集成電路制造技術(shù)。我國已出現(xiàn)一批掌握前沿技術(shù)的高科技公司，如中芯國際、華為等。
【產(chǎn)品圖片】
圖1
圖2
【技術(shù)指標(biāo)】
1．晶粒尺寸—表示晶粒大小的尺度，反映材料內(nèi)部性能的關(guān)鍵參數(shù)：40-60μm
2．織構(gòu)—多晶體晶粒在空間形成規(guī)律性的位向關(guān)系：均勻織構(gòu)
【責(zé)任編輯：王占朝】
